판매 IP


산업 분야별 판매 가능한 IP입니다.


IP 명칭 대면적의 전이금속 산화물 박막, 이의 제조 방법 및 이의 제조 장치 
권리자 연세대학교 산학협력단 
발명자 또는 창작자  
출원번호 10-2018-0087732 
공개번호  
등록번호 10-2058293 
출원일 2018-07-27 
공개일  
등록일 2019-12-16 
IP 분야 전자통신소자 
응용 분야 및 용도  
설명 및 특징 본 발명의 실시예에 따르면, 반데르발스 에픽성장법에 의하여 2차원 층상물질의 기저 층 표면에 이종(異種)물질인 α-MoO3 박막을 대면적에 걸쳐 수 나노미터 두께로 균일하게 형성시킬 수 있는 효과가 있다. α-MoO3 박막을 형성하기 위한 종래의 증착 방법에 대비하여, 반데르발스 에픽성장법은 층간에 미약한 반데르발스 상호작용만이 존재하고 표면에서는 비결합 오비탈이 없으므로, 2차원 이종(異種)물질인 기저 층과 α-MoO3 박막층 간의 격자 정합 조건을 상당히 완화시킬 수 있다. 그 결과로 α-MoO3 박막을 대면적에 걸쳐 균일하고 얇게 형성할 수 있으며, α-MoO3 결정 성장과정에서는 산소 결함을 제어하여 밴드갭과 일함수를 조절할 수도 있다. 이렇게 제조된 α-MoO3 박막은 우수한 절연특성을 가지고 있으므로 절연층, 유전층 또는 도펀트의 레저보어와 같은 다양한 반도체 소자로 응용이 가능한 효과가 있다. 
IP 핵심 키워드  
종래 기술과의 차이점  
사업성 또는 시장성  
IP 실현단계(TRL) 사업화 
IP 거래 형태 매입 
IP 거래 희망 시기 협의 
거래 희망 금액 협의 
IP 거래 조건 협의 

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